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【法規名稱】法律用語辭典


放流水標準

【公布日期】108.04.29 【公布機關】行政院環境保護署

法規內容〉〉

【法規沿革】
1‧中華民國七十六年五月五日行政院衛生署(76)衛署環字第654798號令訂定發布全文4條
2‧中華民國八十年一月十六日行政院環境保護署(80)環署法字第00359號令修正發布
3‧中華民國八十年十一月二十九日行政院環境保護署(80)環署法字第46873號令修正發布
4‧中華民國八十六年三月十九日行政院環境保護署(86)環署水字第09953號令修正發布全文10條
5‧中華民國八十六年十二月二十四日行政院環境保護署(86)環署水字第78804號令修正發布全文12條
6‧中華民國八十八年九月二十四日行政院環境保護署(88)環署水字第0060545號令修正發布第6條條文
7‧中華民國八十九年二月九日行政院環境保護署(89)環署水字第0004191號令修正發布全文8條;並自發布日起施行
8‧中華民國九十年二月七日行政院環境保護署(90)環署水字第0004055號令修正發布第2、6條條文
9‧中華民國九十年十一月二十一日行政院環境保護署(90)環署水字第0069097號令修正發布第2條條文
10‧中華民國九十二年十一月二十六日行政院環境保護署環署水字第0920084786號令修正發布第2條條文
11‧中華民國九十六年九月三日行政院環境保護署環署水字第0960065740號令修正發布全文8條;並自發布日施行
12‧中華民國九十八年七月二十八日行政院環境保護署環署水字第0980065341號令修正發布第2、4條條文
13‧中華民國九十九年十二月十五日行政院環境保護署環署水字第0990112348F號令修正發布全文9條;本標準除另定施行日期者外,自發布日施行
14‧中華民國一百年十二月一日行政院環境保護署環署水字第1000103860號令修正發布第2條條文
15‧中華民國一百零一年十月十二日行政院環境保護署環署水字第1010090770號令修正發布第2、5、6條條文
16‧中華民國一百零三年一月二十二日行政院環境保護署環署水字第1030005842號令修正發布第2條條文
17‧中華民國一百零五年一月六日行政院環境保護署環署水字第1040110356號令修正發布第2條條文
18‧中華民國一百零六年十二月二十五日行政院環境保護署環署水字第1060101625號令修正發布第25條條文;並增訂第2-1條條文
19‧中華民國一百零八年四月二十九日行政院環境保護署環署水字第1080028628號令修正發布第22-1條條文【相關附表

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【法規內容】

第1條


  本標準依水污染防治法(以下簡稱本法)第七條第二項規定訂定之。

第2條


  事業、污水下水道系統及建築物污水處理設施之放流水標準,其水質項目及限值之規定如下:
  一、事業
  (一)晶圓製造及半導體製造業適用附表一。
  (二)光電材料及元件製造業適用附表二。
  (三)石油化學業適用附表三。
  (四)化工業適用附表四。
  (五)金屬基本工業、金屬表面處理業、電鍍業和印刷電路板製造業適用附表五。
  (六)發電廠適用附表六。
  (七)海水淡化廠適用附表七。
  (八)前七款以外之事業適用附表八。
  二、污水下水道系統
  (一)科學工業園區專用污水下水道系統適用附表九。
  (二)石油化學專業區專用污水下水道系統適用附表十。
  (三)其他工業區專用污水下水道系統適用附表十一。
  (四)社區專用污水下水道系統適用附表十二。
  (五)其他指定地區或場所專用污水下水道系統適用附表十三。
  (六)公共污水下水道系統適用附表十四。
  三、建築物污水處理設施適用附表十五。
  事業、污水下水道系統排放廢(污)水於經直轄市、縣(市)主管機關公告應特予保護農地水體之排放總量管制區(以下稱總量管制區)內之特定承受水體者,其銅、鋅、總鉻、鎳、鎘、六價鉻之限值適用附表十六。但總量管制區內之事業或污水下水道系統,未排放廢(污)水於總量管制區內特定承受水體者,不適用附表十六規定。
  特定業別、區域之事業、污水下水道系統及建築物污水處理設施,另定有排放標準者,或直轄市、縣(市)主管機關依據本法第七條第二項增訂或加嚴轄內之放流水標準者,依其規定。

   --108年4月29日修正前條文--


  事業、污水下水道系統及建築物污水處理設施之放流水標準,其水質項目及限值之規定如下:
  一、事業
  (一)晶圓製造及半導體製造業適用附表一。
  (二)光電材料及元件製造業適用附表二。
  (三)石油化學業適用附表三。
  (四)化工業適用附表四。
  (五)金屬基本工業、金屬表面處理業、電鍍業和印刷電路板製造業適用附表五。
  (六)發電廠適用附表六。
  (七)前六款以外之事業適用附表七。
  二、污水下水道系統
  (一)科學工業園區專用污水下水道系統適用附表八。
  (二)石油化學專業區專用污水下水道系統適用附表九。
  (三)其他工業區專用污水下水道系統適用附表十。
  (四)社區專用污水下水道系統適用附表十一。
  (五)其他指定地區或場所專用污水下水道系統適用附表十二。
  (六)公共污水下水道系統適用附表十三。
  三、建築物污水處理設施適用附表十四。
  事業、污水下水道系統排放廢(污)水於經直轄市、縣(市)主管機關公告應特予保護農地水體之排放總量管制區(以下稱總量管制區)內之特定承受水體者,其銅、鋅、總鉻、鎳、鎘、六價鉻之限值適用附表十五。但總量管制區內之事業或污水下水道系統,未排放廢(污)水於總量管制區內特定承受水體者,不適用附表十五規定。
  特定業別、區域之事業、污水下水道系統及建築物污水處理設施,另定有排放標準者,或直轄市、縣(市)主管機關依據本法第七條第二項增訂或加嚴轄內之放流水標準者,依其規定。

   --106年12月25日修正前條文--


  事業、污水下水道系統及建築物污水處理設施之放流水標準,其水質項目及限值如附表一。
  事業、污水下水道系統排放廢(污)水於經直轄市、縣(市)主管機關公告應特予保護農地水體之排放總量管制區(以下稱總量管制區)內之特定承受水體者,其銅、鋅、總鉻、鎳、鎘、六價鉻之限值適用附表二。但總量管制區內之事業或污水下水道系統,以沿灌溉渠道或各級排水路掛管方式排放廢(污)水,或以共同排放管線共同排放廢(污)水,將放流口設置於總量管制區外,未排放廢水於總量管制區內者,或放流口雖設置於總量管制區內,卻未排放廢(污)水於總量管制區內特定承受水體者,不適用附表二規定。
  特定業別、區域之事業、污水下水道系統及建築物污水處理設施,另定有排放標準者,依其規定。

   --105年1月6日修正前條文--


  事業、污水下水道系統及建築物污水處理設施之放流水標準,其水質項目及限值如下表。但特定業別、區域另定有排放標準者,依其規定。

第2-1條


  工業區污水下水道系統,其石油化學業和化工業許可核准納管水量達許可核准排放水量百分之五十以上者,適用附表十之規定;其石油化學業和化工業許可核准納管水量未達許可核准排放水量百分之五十者,適用附表十一之規定。
  海水淡化廠排放之廢(污)水適用之放流水標準依下列規定:
  一、以海水為原水,排放鹵水及過濾反洗廢水、薄膜清洗廢水或其他與海水淡化有關作業廢水混合排放者,適用附表七。
  二、產生之廢(污)水採海洋放流管線排放於海洋者,適用海洋放流管線放流水標準。

   --108年4月29日修正前條文--


  工業區污水下水道系統,其石油化學業和化工業許可核准納管水量達許可核准排放水量百分之五十以上者,適用附表九之規定;其石油化學業和化工業許可核准納管水量未達許可核准排放水量百分之五十者,適用附表十之規定。

第3條


  事業及其所屬公會或環境保護相關團體得隨時提出具體科學性數據、資料,供檢討修正之參考。

第4條


  本標準所定之化學需氧量限值,係以重鉻酸鉀氧化方式檢測之;真色色度,係以真色色度法檢測之。

第5條


  本標準用詞,定義如下:
  一、總毒性有機物:指 1,2- 二氯苯、1,3-二氯苯、1,4-二氯苯、1,2,4-三氯苯、甲苯、乙苯、三氯甲烷、1,2-二氯乙烷、二氯甲烷、1,1,1-三氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、二氯溴甲烷、四氯乙烯、三氯乙烯、1,1-二氯乙烯、2-氯酚、2,4-二氯酚、4-硝基酚、五氯酚、2-硝基酚、酚、2,4,6-三氯酚、鄰苯二甲酸乙己酯、鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸丁苯酯、、1,2-二苯基聯胺、異佛爾酮、四氯化碳及,計三十種化合物之濃度總和。
  二、石油化學業高含氮製程:指下列含氮製程,且作業廢水水量達放流口許可核准之排放水量百分之四十以上者:
  (一)三氟化氮與電子級液氨製造程序。
  (二)甲基丙烯酸酯類(MMA) 化學製造程序。
  (三)丙烯腈製造程序。
  (四)丙烯腈-丁二烯共聚合物(AB)化學製造程序。
  (五)丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚合物(ABS) 化學製造程序。
  (六)丙烯腈-苯乙烯共聚合物(AS)化學製造程序。
  (七)己內醯胺製造程序。
  (八)硫酸銨化學製造程序。
  (九)聚醯胺塑膠(尼龍)製造程序。
  三、化工業高含氮製程:指下列含氮製程,且作業廢水水量達放流口許可核准之排放水量百分之四十以上之化工業者:
  (一)氨化學製造程序。
  (二)氮肥製造程序。
  (三)銨肥化學製造程序。
  (四)磷酸銨鹽肥料製造程序。
  (五)含氮複肥製造程序。
  (六)三氟化氮製造程序。
  (七)硫酸銨化學製造程序。
  (八)乙二胺四醋酸鹽(EDTA)化學製造程序。
  (九)其他銨鹽製造程序。
  (十)丙烯腈製造程序。
  (十一)尿素化學製造程序。
  (十二)苯胺製造程序。
  (十三)己內醯胺製造程序。
  (十四)乙醇胺化學製造程序。
  (十五)酸胺化學製造程序。
  (十六)其他合成胺及腈合物製造程序。
  (十七)甲基丙烯酸酯類(MMA) 化學製造程序。
  (十八)氨基甲酸酯製造程序。
  (十九)尿素甲醛樹脂製造程序。
  (二十)三聚氰胺樹脂製造程序。
  (二十一)聚丙烯腈纖維製造程序。
  (二十二)聚醯胺塑膠(尼龍)製造程序。
  (二十三)丙烯腈-丁二烯共聚合物(AB)化學製造程序。
  (二十四)丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚合物(ABS) 化學製造程序。
  (二十五)丙烯腈-苯乙烯共聚合物(AS)化學製造程序。
  (二十六)染料製造程序(偶氮染料)。
  (二十七)煉焦相關程序,含焦碳製造之副產品程序、焦碳製造之蜂巢程序、流體焦碳製造程序、石油焦煉製程序等。
  四、戴奧辛:指以檢測 2,3,7,8- 四氯戴奧辛(2,3,7,8-Tetrachlorina-ted dibenzo-p-dioxin, 2,3,7,8-TeCDD),2,3,7,8-四氯喃(2,3,7,8-Tetrachlorinateddibenzofuran, 2,3,7,8-TeCDF) 及 2,3,7,8-氯化之五氯(Penta-),六氯(Hexa-),七氯(Hepta-)與八氯(Octa-) 戴奧辛及喃等共十七項化合物所得濃度,乘以國際毒性當量因子(International Toxicity Equivalency Factor, I-TEF)之總和計算之,以總毒性當量(Toxicity Equivalency Quantity of
  2,3,7,8-tetrachlorinated dibenzo-p-dioxin, TEQ)表示。
  五、總有機磷劑:指達馬松、美文松、滅賜松、普伏松、亞素靈、福瑞松、大滅松、托福松、大利松、大福松、二硫松、甲基巴拉松、亞特松、撲滅松、馬拉松、陶斯松、芬殺松、巴拉松、甲基溴磷松、賽達松、乙基溴磷松、滅大松、普硫松、愛殺松、三落松、加芬松、一品松、裕必松、谷速松計二十九種化合物之濃度總和。
  六、總氨基甲酸鹽:指滅必蝨、加保扶、納乃得、安丹、丁基滅必蝨、歐殺滅、得滅克、加保利、滅賜克計九種化合物之濃度總和。
  七、除草劑:指丁基拉草、巴拉刈、二、四-地、拉草、全滅草、嘉磷塞、二刈計七種化合物之濃度總和。
  八、七日平均值:指間隔每四至八小時採樣一次,每日共四個水樣,混合成一個水樣檢測分析,連續七日測值之算術平均。

   --106年12月25日修正前條文--


  本標準所定之戴奧辛係以檢測 2,3,7,8- 四氯戴奧辛(2,3,7,8- Tetrac-hlorinated dibenzo-p-dioxin, 2,3,7,8-TeCDD),2,3,7,8-四氯喃(2,3,7,8-Tetrachlorinateddibenzofuran, 2,3,7,8-TeCDF) 及 2,3,7,8- 氯化之五氯(Penta-),六氯(Hexa-),七氯(Hepta-)與八氯(Octa-) 戴奧辛及喃等共十七項化合物所得濃度,乘以國際毒性當量因子(International Toxicity Equivalency Factor, I-TEF)之總和計算之,以總毒性當量(Toxicity Equivalency Quantity of 2,3,7,8-tetrac-hlorinated dibenzo-p-dioxin, TEQ)表示。

第6條


  本標準各項目限值,除氫離子濃度指數為一範圍外,均為最大限值,其單位如下:
  一、氫離子濃度指數:無單位。
  二、真色色度:無單位。
  三、大腸桿菌群:每一百毫升水樣在濾膜上所產生之菌落數(CFU/100mL)。
  四、戴奧辛:皮克-國際-總毒性當量/公升(pgI-TEQ/L)。
  五、其餘各項目:毫克/公升。

第7條


  本標準各項目限值,除水溫及氫離子濃度指數外,事業或污水下水道系統自水體取水作為冷卻或循環用途之未接觸冷卻水,如排放於原取水區位之地面水體,不適用本標準。

第8條


  事業、污水下水道系統及建築物污水處理設施,同時依本標準適用範圍,有二種以上不同業別或同一業別有不同製程,其廢水混合處理及排放者,應符合各該業別之放流水標準。相同之管制項目有不同管制限值者,應符合較嚴之限值標準。各業別中之一種業別廢水水量達總廢水量百分之七十五以上,並裝設有獨立專用累計型水量計測設施者,得向主管機關申請對共同管制項目以該業別放流水標準管制。
  前項廢水量所佔比例,以申請日前半年之紀錄計算之。

第9條


  本標準除另定施行日期者外,自發布日施行。
 

相關附表

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http://law.moj.gov.tw/LawClass/LawContent.aspx?PCODE=O0040004


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